Semicera na-enye ndị isi ụlọ ọrụNdị na-ebu Wafer, emepụtara iji nye nchebe dị elu na njem na-enweghị nkebi nke obere semiconductor wafers gafere ọkwa dị iche iche nke usoro nrụpụta. AnyịNdị na-ebu Waferemebere nke ọma iji gboo mkpa siri ike nke imepụta semiconductor ọgbara ọhụrụ, na-ahụ na a na-edobe iguzosi ike n'ezi ihe na ịdị mma nke wafer gị oge niile.
Akụkụ ndị bụ isi:
• Ihe nrụpụta adịchaghị:Emebere ya site na ihe dị elu, ihe na-egbochi mmetọ nke na-ekwe nkwa ịdịte aka na ogologo ndụ, na-eme ka ha dị mma maka gburugburu ebe obibi dị ọcha.
•Nhazi nkenke:Ngosipụta nhazi oghere ziri ezi yana usoro njide echekwara iji gbochie mwepu na mmebi n'oge njikwa na njem.
•Ndakọrịta nke ukwuu:Na-anabata ọtụtụ nha wafer na ọkpụrụkpụ, na-enye mgbanwe maka ngwa semiconductor dị iche iche.
•Ijikwa Ergonomic:Nhazi dị fechaa na enyi na-arụ ọrụ na-eme ka ọ dị mfe nbudata na nbudata, na-eme ka arụ ọrụ dị mma na ibelata oge njikwa.
•Nhọrọ enwere ike ịhazi:Na-enye nhazi ka ọ mezuo ihe achọrọ, gụnyere nhọrọ ihe, nhazi nha, na ịde aha maka ntinye usoro ọrụ kachasị mma.
Jiri Semicera kwalite usoro nrụpụta semiconductor gịNdị na-ebu Wafer, ngwọta zuru oke maka ichekwa wafers gị megide mmetọ na mmebi igwe. Tụkwasa obi na nkwa anyị maka ịdị mma na ihe ọhụrụ iji wepụta ngwaahịa na-abụghị naanị na-ezute mana gafere ụkpụrụ ụlọ ọrụ, na-ahụ na ọrụ gị na-aga nke ọma na nke ọma.
| Ihe | Mmepụta | Nyocha | Dummy |
| kristal Parameters | |||
| Ụdị poly | 4H | ||
| Njehie nhazi ihu elu | <11-20>4±0.15° | ||
| Igwe ọkụ eletrik | |||
| Dopant | n-ụdị Nitrogen | ||
| Nguzogide | 0.015-0.025ohm·cm | ||
| Mechanical Parameters | |||
| Dayameta | 150.0 ± 0.2mm | ||
| Ọkpụrụkpụ | 350± 25 μm | ||
| Ntuzi aka dị larịị | [1-100]±5° | ||
| Ogologo larịị nke isi | 47.5 ± 1.5mm | ||
| Ụlọ nke abụọ | Ọ dịghị | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
| Ụta | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Ihu (Si-face) adịghị ike (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Nhazi | |||
| Njupụta Micropipe | <1 ea/cm2 | <10 nkea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Igwe adịghị ọcha | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Ogo ihu | |||
| N'ihu | Si | ||
| Ngwucha elu | Si-ihu CMP | ||
| Ụmụ irighiri ihe | ≤60ea/wafer (nha≥0.3μm) | NA | |
| Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta | Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta | NA |
| Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ | Ọ dịghị | NA | |
| Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex | Ọ dịghị | ||
| Mpaghara polytype | Ọ dịghị | Mpaghara mkpokọta≤20% | Mpaghara mkpokọta≤30% |
| Akara laser n'ihu | Ọ dịghị | ||
| Ogo azụ | |||
| Ngwunye azụ | C-ihu CMP | ||
| Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta | NA | |
| Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents) | Ọ dịghị | ||
| Azụ isi ike | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Akara laser azụ | 1 mm (si n'akụkụ elu) | ||
| Ọnụ | |||
| Ọnụ | Chamfer | ||
| Nkwakọ ngwaahịa | |||
| Nkwakọ ngwaahịa | Epi dị njikere na nkwakọ ihe efu Ngwunye cassette ọtụtụ wafer | ||
| * Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD. | |||
