Silicon carbide (SiC) otu ihe kristal nwere nnukwu oghere obosara (~ Si 3 ugboro), ịdị elu nke thermal conductivity (~ Si 3.3 ugboro ma ọ bụ GaAs ugboro 10), ọnụego mgbanwe saturation elektrọn dị elu (~ Si 2.5 ugboro), ọkụ eletrik dị elu. ubi (~ Si ugboro 10 ma ọ bụ GaAs 5 ugboro) na njirimara ndị ọzọ pụtara ìhè.
Ike Semicera nwere ike inye ndị ahịa ihe nrụpụta dị elu (Conductive), Semi-insulating (Semi-insulating), HPSI (High Purity Semi-insulating) silicon carbide substrate; Na mgbakwunye, anyị nwere ike inye ndị ahịa akwụkwọ mpempe akwụkwọ nke silicon carbide dị iche iche na nke dị iche iche; Anyị nwekwara ike hazie mpempe akwụkwọ epitaxial dị ka mkpa ndị ahịa si dị, ọ nweghịkwa ọnụọgụ kacha nta.
| Ihe | Mmepụta | Nnyocha | Dummy |
| kristal Parameters | |||
| Ụdị poly | 4H | ||
| Njehie nhazi ihu elu | <11-20>4±0.15° | ||
| Igwe ọkụ eletrik | |||
| Dopant | n-ụdị Nitrogen | ||
| Nguzogide | 0.015-0.025ohm·cm | ||
| Mechanical Parameters | |||
| Dayameta | 99.5-100mm | ||
| Ọkpụrụkpụ | 350± 25 μm | ||
| Ntuzi aka dị larịị | [1-100]±5° | ||
| Ogologo larịị nke isi | 32.5 ± 1.5mm | ||
| Ọkwa dị larịị nke abụọ | 90° CW site na larịị ± 5° nke mbụ. silicon ihu elu | ||
| Ogologo larịị nke abụọ | 18 ± 1.5mm | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤20 μm |
| LTV | ≤2 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | NA |
| Ụta | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Warp | ≤20 μm | ≤45 μm | ≤50 μm |
| Ihu (Si-face) adịghị ike (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Nhazi | |||
| Njupụta Micropipe | ≤1 ea/cm2 | ≤5 ea/cm2 | ≤10 ea/cm2 |
| Igwe adịghị ọcha | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Ogo ihu | |||
| N'ihu | Si | ||
| Ngwucha elu | Si-ihu CMP | ||
| Ụmụ irighiri ihe | ≤60ea/wafer (nha≥0.3μm) | NA | |
| Ọkpụkpụ | ≤2ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta | Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta | NA |
| Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ | Ọ dịghị | NA | |
| Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex | Ọ dịghị | NA | |
| Mpaghara polytype | Ọ dịghị | Mpaghara mkpokọta≤20% | Mpaghara mkpokọta≤30% |
| Akara laser n'ihu | Ọ dịghị | ||
| Ogo azụ | |||
| Ngwucha azụ | C-ihu CMP | ||
| Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta | NA | |
| Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents) | Ọ dịghị | ||
| Azụ isi ike | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Akara laser azụ | 1 mm (si n'akụkụ elu) | ||
| Ọnụ | |||
| Ọnụ | Chamfer | ||
| Nkwakọ ngwaahịa | |||
| Nkwakọ ngwaahịa | Akpa dị n'ime juputara na nitrogen ma kpochapu akpa nke dị n'èzí. Multi-wafer cassette, epi-njikere. | ||
| * Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD. | |||
