Semiceraewebata na850V ike dị elu GaN-on-Si Epi Wafer, ọganihu na mmepụta ihe ọhụrụ nke semiconductor. Nke a dị elu epi wafer na-ejikọta arụmọrụ dị elu nke Gallium Nitride (GaN) na ọnụ ahịa Silicon (Si), na-emepụta ngwọta dị ike maka ngwa ngwa voltaji.
Akụkụ ndị bụ isi:
•Ijikwa voltaji dị elu: Ekepụtara iji kwado ihe ruru 850V, GaN-on-Si Epi Wafer a dị mma maka ịchọ ọkụ eletrik, na-eme ka arụmọrụ dị elu na arụmọrụ dị elu.
•Njupụta Ike emelitere: Site na mmegharị eletrọn dị elu na nrụpụta ọkụ, teknụzụ GaN na-enye ohere maka imepụta kọmpat yana njupụta ike.
•Ngwọta dị ọnụ ahịa: Site n'itinye silicon dị ka mkpụrụ, epi wafer a na-enye ụzọ dị ọnụ ala karịa wafers omenala GaN, na-emebighị àgwà ma ọ bụ arụmọrụ.
•Oke ngwa ngwa: Zuru oke maka ojiji na ndị na-agbanwe ike, RF amplifiers, na ngwaọrụ eletrọnịkị ndị ọzọ dị elu, na-eme ka ntụkwasị obi na ịdịte aka.
Jiri Semicera's chọpụta ọdịnihu teknụzụ dị elu850V ike dị elu GaN-on-Si Epi Wafer. Emebere ya maka ngwa dị oke ọnụ, ngwaahịa a na-ahụ na ngwaọrụ eletrọnịkị gị na-arụ ọrụ na oke arụmọrụ yana ntụkwasị obi. Họrọ Semicera maka mkpa semiconductor nke ọgbọ na-abịa.
| Ihe | Mmepụta | Nnyocha | Dummy |
| kristal Parameters | |||
| Ụdị poly | 4H | ||
| Njehie nhazi ihu elu | <11-20>4±0.15° | ||
| Igwe ọkụ eletrik | |||
| Dopant | n-ụdị Nitrogen | ||
| Nguzogide | 0.015-0.025ohm·cm | ||
| Mechanical Parameters | |||
| Dayameta | 150.0± 0.2mm | ||
| Ọkpụrụkpụ | 350± 25 μm | ||
| Ntuzi aka dị larịị | [1-100]±5° | ||
| Ogologo larịị nke isi | 47.5 ± 1.5mm | ||
| Ụlọ nke abụọ | Ọ dịghị | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
| Ụta | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Ihu (Si-face) adịghị ike (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Nhazi | |||
| Njupụta Micropipe | <1 ea/cm2 | <10 nkea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Igwe adịghị ọcha | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Ogo ihu | |||
| N'ihu | Si | ||
| Ngwucha elu | Si-ihu CMP | ||
| Ụmụ irighiri ihe | ≤60ea/wafer (nha≥0.3μm) | NA | |
| Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta | Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta | NA |
| Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ | Ọ dịghị | NA | |
| Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex | Ọ dịghị | ||
| Mpaghara polytype | Ọ dịghị | Mpaghara mkpokọta≤20% | Mpaghara mkpokọta≤30% |
| Akara laser n'ihu | Ọ dịghị | ||
| Ogo azụ | |||
| Ngwucha azụ | C-ihu CMP | ||
| Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta | NA | |
| Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents) | Ọ dịghị | ||
| Azụ isi ike | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Akara laser azụ | 1 mm (si n'akụkụ elu) | ||
| Ọnụ | |||
| Ọnụ | Chamfer | ||
| Nkwakọ ngwaahịa | |||
| Nkwakọ ngwaahịa | Epi dị njikere na nkwakọ ihe efu Ngwunye cassette ọtụtụ wafer | ||
| * Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD. | |||
