Semicera's SiN Ceramics Plain Substrates na-enye ihe ngwọta dị elu maka ngwa eletrọnịkị na ụlọ ọrụ dị iche iche. N'ịbụ ndị a maara maka ịdị mma ọkụ ha dị mma na ike igwe, ihe ndị a na-ahụ maka ọrụ a pụrụ ịdabere na ya na gburugburu ebe ndị na-achọsi ike.
A na-emepụta seramiki SiN (Silicon Nitride) ka ọ na-ejikwa oke okpomọkụ na ọnọdụ nrụgide dị elu, na-eme ka ọ dị mma maka ngwa eletrik dị elu na ngwaọrụ semiconductor dị elu. Ogologo ha na iguzogide ujo ọkụ na-eme ka ha dị mma maka iji ngwa ebe ntụkwasị obi na arụmọrụ dị oke mkpa.
Usoro imepụta nkenke nke Semicera na-ahụ na mkpụrụ osisi ọ bụla dị larịị na-ezute ụkpụrụ ịdị mma siri ike. Nke a na-ebute mkpụrụ ndị nwere oke na ịdị mma na-agbanwe agbanwe, nke dị mkpa maka ịrụ ọrụ kachasị mma na mgbakọ na usoro eletrọnịkị.
Na mgbakwunye na uru ọkụ na igwe ha, SiN Ceramics Plain Substrates na-enye ihe mkpuchi ọkụ eletrik mara mma. Nke a na-eme ka nnyonye anya ọkụ eletrik dị ntakịrị ma na-enye aka na nkwụsi ike zuru oke na arụmọrụ nke akụrụngwa eletrọnịkị, na-eme ka ndụ ha rụọ ọrụ.
Site n'ịhọrọ Semicera's SiN Ceramics Plain Substrates, ị na-ahọrọ ngwaahịa na-ejikọta sayensị ihe onwunwe dị elu yana n'ichepụta oke. Nkwenye anyị maka ịdị mma na ihe ọhụrụ na-ekwe nkwa na ị na-enweta ihe ndị na-emepụta ihe na-agbaso ụkpụrụ ụlọ ọrụ kachasị elu ma kwado ọganihu nke ọrụ nkà na ụzụ gị dị elu.
Ihe | Mmepụta | Nnyocha | Dummy |
kristal Parameters | |||
Ụdị poly | 4H | ||
Njehie nhazi ihu elu | <11-20>4±0.15° | ||
Igwe ọkụ eletrik | |||
Dopant | n-ụdị Nitrogen | ||
Nguzogide | 0.015-0.025ohm·cm | ||
Mechanical Parameters | |||
Dayameta | 150.0± 0.2mm | ||
Ọkpụrụkpụ | 350± 25 μm | ||
Ntuzi aka dị larịị | [1-100]±5° | ||
Ogologo larịị nke isi | 47.5 ± 1.5mm | ||
Ụlọ nke abụọ | Ọ dịghị | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Ụta | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Ihu ihu (Si-face) adịghị ike (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Nhazi | |||
Njupụta Micropipe | <1 ea/cm2 | <10 nkea/cm2 | <15 ea/cm2 |
Igwe adịghị ọcha | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Ogo ihu | |||
N'ihu | Si | ||
Ngwucha elu | Si-ihu CMP | ||
Ụmụ irighiri ihe | ≤60ea/wafer (nha≥0.3μm) | NA | |
Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta | Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta | NA |
Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ | Ọ dịghị | NA | |
Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex | Ọ dịghị | ||
Mpaghara polytype | Ọ dịghị | Mpaghara mkpokọta≤20% | Mpaghara mkpokọta≤30% |
Akara laser n'ihu | Ọ dịghị | ||
Ogo azụ | |||
Ngwunye azụ | C-ihu CMP | ||
Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta | NA | |
Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents) | Ọ dịghị | ||
Azụ isi ike | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Akara laser azụ | 1 mm (si n'akụkụ elu) | ||
Ọnụ | |||
Ọnụ | Chamfer | ||
Nkwakọ ngwaahịa | |||
Nkwakọ ngwaahịa | Epi dị njikere na nkwakọ ihe efu Ngwunye cassette ọtụtụ wafer | ||
* Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD. |