4 ″ Gallium oxide Substrates

Nkọwa dị mkpirikpi:

4 ″ Gallium oxide Substrates- Mepee ọkwa arụmọrụ na arụmọrụ ọhụrụ na ngwa eletrọnịkị na ngwaọrụ UV nwere ihe dị elu 4 ″ Gallium Oxide Substrates nke Semicera, emebere maka ngwa semiconductor dị mkpụmkpụ.


Nkọwa ngwaahịa

Mkpado ngwaahịa

Semiceraji nganga ewebata ya4" Gallium oxide ihe ndị na-emepụta ihe, ihe na-emepe emepe emebere iji gboo mkpa na-eto eto nke ngwaọrụ semiconductor na-arụ ọrụ dị elu. Gallium oxide (Ga2O3) ihe ndị na-emepụta ihe na-enye bandgap obosara nke ukwuu, na-eme ka ha dị mma maka eletrik eletrik na-esote ọgbọ, UV optoelectronics, na ngwaọrụ dị elu.

 

Akụkụ ndị bụ isi:

• Bandgap nke ukwuu: Nke4" Gallium oxide ihe ndị na-emepụta iheNa-anya isi bandgap nke ihe dịka 4.8 eV, na-enye ohere maka voltaji pụrụ iche na nnabata okpomọkụ, na-egosipụta nke ọma ihe semiconductor ọdịnala dị ka silicon.

Voltaji ndakpọ dị elu: Ihe ndị a na-enyere ngwaọrụ aka ịrụ ọrụ na voltaji na ike dị elu, na-eme ka ha zuo oke maka ngwa voltaji dị elu na ngwá electronic.

Kachasịnụ Thermal kwụsie ike: Gallium oxide substrates na-enye ezigbo conductivity thermal, na-eme ka arụmọrụ kwụsie ike n'okpuru ọnọdụ dị oke egwu, dị mma maka iji gburugburu ebe na-achọsi ike.

Ogo ihe dị elu: Site na njupụta ntụpọ dị ala na ogo kristal dị elu, ihe ndị a na-eme ka a na-arụ ọrụ a pụrụ ịdabere na ya na-agbanwe agbanwe, na-eme ka arụmọrụ na ịdịte aka nke ngwaọrụ gị.

Ngwa dị iche iche: Kwesịrị ekwesị maka ngwa dịgasị iche iche, gụnyere ike transistors, Schottky diodes, na UV-C LED ngwaọrụ, na-eme ka ihe ọhụrụ dị na ma ike na optoelectronic ubi.

 

Jiri Semicera nyochaa ọdịnihu nke teknụzụ semiconductor4" Gallium oxide ihe ndị na-emepụta ihe. Emebere substrates anyị iji kwado ngwa kachasị elu, na-enye ntụkwasị obi na arụmọrụ achọrọ maka ngwaọrụ ndị dị ugbu a. Tụkwasị Semicera obi maka ịdị mma na ihe ọhụrụ na ihe semiconductor gị.

Ihe

Mmepụta

Nnyocha

Dummy

kristal Parameters

Ụdị poly

4H

Njehie nhazi ihu elu

<11-20>4±0.15°

Igwe ọkụ eletrik

Dopant

n-ụdị Nitrogen

Nguzogide

0.015-0.025ohm·cm

Mechanical Parameters

Dayameta

150.0± 0.2mm

Ọkpụrụkpụ

350± 25 μm

Ntuzi aka dị larịị

[1-100]±5°

Ogologo larịị nke isi

47.5 ± 1.5mm

Ụlọ nke abụọ

Ọ dịghị

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Ụta

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Ihu (Si-face) adịghị ike (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Nhazi

Njupụta Micropipe

<1 ea/cm2

<10 nkea/cm2

<15 ea/cm2

Igwe adịghị ọcha

≤5E10atom/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Ogo ihu

N'ihu

Si

Ngwucha elu

Si-ihu CMP

Ụmụ irighiri ihe

≤60ea/wafer (nha≥0.3μm)

NA

Ọkpụkpụ

≤5ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta

Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta

NA

Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ

Ọ dịghị

NA

Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex

Ọ dịghị

Mpaghara polytype

Ọ dịghị

Mpaghara mkpokọta≤20%

Mpaghara mkpokọta≤30%

Akara laser n'ihu

Ọ dịghị

Ogo azụ

Ngwucha azụ

C-ihu CMP

Ọkpụkpụ

≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta

NA

Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents)

Ọ dịghị

Azụ isi ike

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Akara laser azụ

1 mm (si n'akụkụ elu)

Ọnụ

Ọnụ

Chamfer

Nkwakọ ngwaahịa

Nkwakọ ngwaahịa

Epi dị njikere na nkwakọ ihe efu

Ngwunye cassette ọtụtụ wafer

* Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD.

tech_1_2_size
SiC wafers

  • Nke gara aga:
  • Osote: