Semicera dị mpako na-ewetara ndịGa2O3Mkpụrụ, ihe na-egbu egbu dị njikere ịgbanwe ọkụ eletrik na optoelectronics.Gallium oxide (Ga2O3) substratesmara maka bandgap ultra-wide ha, na-eme ka ha dị mma maka ngwaọrụ dị elu na nke dị elu.
Akụkụ ndị bụ isi:
• Oke Bandgap nke ukwuu: Ga2O3 na-enye bandgap nke ihe dịka 4.8 eV, na-eme ka ike ya dị elu ijikwa oke voltaji na okpomọkụ tụnyere ihe ọdịnala dịka Silicon na GaN.
• Voltaji ndakpọ dị elu: Site na ubi mmebi pụrụ iche, nkeGa2O3Mkpụrụzuru oke maka ngwaọrụ ndị chọrọ ịrụ ọrụ voltaji dị elu, na-eme ka arụmọrụ na ntụkwasị obi dịkwuo ukwuu.
• Thermal Stability: Nkwụsi ike dị elu nke ihe onwunwe na-eme ka ọ dị mma maka ngwa na gburugburu ebe dị oke egwu, na-arụ ọrụ ọbụna n'okpuru ọnọdụ siri ike.
• Ngwa dị iche iche: Ọ dị mma maka iji na transistors ike dị elu, ngwaọrụ UV optoelectronic, na ndị ọzọ, na-enye ntọala siri ike maka usoro eletrọnịkị dị elu.
Nweta ọdịnihu teknụzụ semiconductor na Semicera'sGa2O3Mkpụrụ. Ezubere iji gboo ihe ndị na-eto eto nke ngwa elektrọnik dị elu na nke dị elu, mkpụrụ a na-esetịpụ ụkpụrụ ọhụrụ maka ịrụ ọrụ na ịdịte aka. Tukwasa Semicera obi ka ọ wepụta ụzọ ọhụrụ maka ngwa gị kacha sie ike.
Ihe | Mmepụta | Nnyocha | Dummy |
kristal Parameters | |||
Ụdị poly | 4H | ||
Njehie nhazi ihu elu | <11-20>4±0.15° | ||
Igwe ọkụ eletrik | |||
Dopant | n-ụdị Nitrogen | ||
Nguzogide | 0.015-0.025ohm·cm | ||
Mechanical Parameters | |||
Dayameta | 150.0± 0.2mm | ||
Ọkpụrụkpụ | 350± 25 μm | ||
Ntuzi aka dị larịị | [1-100]±5° | ||
Ogologo larịị nke isi | 47.5 ± 1.5mm | ||
Ụlọ nke abụọ | Ọ dịghị | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Ụta | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Ihu (Si-face) adịghị ike (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Nhazi | |||
Njupụta Micropipe | <1 ea/cm2 | <10 nkea/cm2 | <15 ea/cm2 |
Igwe adịghị ọcha | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Ogo ihu | |||
N'ihu | Si | ||
Ngwucha elu | Si-ihu CMP | ||
Ụmụ irighiri ihe | ≤60ea/wafer (nha≥0.3μm) | NA | |
Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm. Ogologo ngụkọta ≤ Dayameta | Ogologo ngụkọta ≤2* dayameta | NA |
Peel oroma / olulu / ntụpọ / striations / mgbawa / mmetọ | Ọ dịghị | NA | |
Iberibe ibe / indents / mgbaji / hex | Ọ dịghị | ||
Mpaghara polytype | Ọ dịghị | Mpaghara mkpokọta≤20% | Mpaghara mkpokọta≤30% |
Akara laser n'ihu | Ọ dịghị | ||
Ogo azụ | |||
Ngwucha azụ | C-ihu CMP | ||
Ọkpụkpụ | ≤5ea/mm, Mgbakọ ogologo≤2* dayameta | NA | |
Nrụrụ azụ (nkịta ihu/indents) | Ọ dịghị | ||
Azụ isi ike | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Akara laser azụ | 1 mm (si n'akụkụ elu) | ||
Ọnụ | |||
Ọnụ | Chamfer | ||
Nkwakọ ngwaahịa | |||
Nkwakọ ngwaahịa | Epi dị njikere na nkwakọ ihe efu Ngwunye cassette ọtụtụ wafer | ||
* Ihe edeturu: "NA" pụtara enweghị arịrịọ Ihe anaghị ekwupụta nwere ike na-ezo aka na SEMI-STD. |